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一、引言在現(xiàn)代工業(yè)制造和科學(xué)研究中,表面處理技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。臺(tái)式真空等離子清洗機(jī)作為一種先進(jìn)的表面處理設(shè)備,廣泛應(yīng)用于微電子、光電器件、生物醫(yī)學(xué)材料等...
[查看詳情]金屬表面常常會(huì)有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層,在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前,需要用實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)處理來(lái)得到潔凈和無(wú)氧化層的表面。在等離子刻蝕過(guò)程中,通過(guò)處理氣體的作用,被刻蝕物會(huì)變成氣相。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出,表面連續(xù)被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(lái)。等離子方法也用于刻蝕塑料表面,通過(guò)氧氣可以灰化填充混合物,同時(shí)得到分布分析情況??涛g方法在塑料印刷和粘合時(shí)作為預(yù)處理手段是十分重要的,如POM、PPS和PTF...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性;
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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